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2012年5月6日，為期三天的2012中國(guó)國(guó)際清潔產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)（CICIE2012）盛大開(kāi)幕，相較往屆，本次展會(huì)更加注重清潔清洗的最新產(chǎn)品和技術(shù)展示，聚集了寶潔、聯(lián)合利華、立白、納愛(ài)斯、藍(lán)月亮、白貓、綠傘、開(kāi)米、碧珍、洛娃、金魚(yú)、凱馳等百余家國(guó)際國(guó)內(nèi)頂尖清潔品牌。
此外，展會(huì)期間舉辦的“工業(yè)清潔論壇”更是成功吸引了眾多參展企業(yè)的關(guān)注。凱馳（上海）清潔系統(tǒng)有限公司工業(yè)產(chǎn)品銷(xiāo)售經(jīng)理丁園生、陶氏化學(xué)（中國(guó)）有限公司技術(shù)經(jīng)理李偉健、北京凱堡清潔設(shè)備有限公司市場(chǎng)部經(jīng)理張皓、上海白貓專(zhuān)用化學(xué)品有限公司主管文玲娜、亞峰陽(yáng)光（北京）生物科技有限公司總裁左婭等出席并參加了本次工業(yè)清潔論壇，并由泰華施貿(mào)易（上海）有限公司市場(chǎng)運(yùn)營(yíng)總監(jiān)郭鈞擔(dān)任主持人。
期間，上海白貓專(zhuān)用化學(xué)品有限公司主管文玲娜就太陽(yáng)能硅晶片清洗的研究應(yīng)用同現(xiàn)場(chǎng)與會(huì)人員進(jìn)行了全面交流與講解！
上海白貓專(zhuān)用化學(xué)品有限公司主管文玲娜
各位專(zhuān)家、各位同仁，大家好！
我是來(lái)自上海白貓專(zhuān)用化學(xué)品有限公司的文玲娜，今天主要給大家介紹一下我們公司對(duì)太陽(yáng)能硅晶片清洗上這幾年做的研究和應(yīng)有。
從2000年之前的技術(shù)研究開(kāi)始，尤其2004年開(kāi)始到2010年這段時(shí)間內(nèi)，太陽(yáng)能電池在國(guó)內(nèi)外的發(fā)展可以說(shuō)是非常迅速的，它的平均增長(zhǎng)率在全球范圍內(nèi)超過(guò)40%，在我國(guó)，太陽(yáng)能電池組件產(chǎn)量以平均超過(guò)100%的年增長(zhǎng)率逐年往上遞增。從2007年開(kāi)始，中國(guó)國(guó)內(nèi)已經(jīng)成為全球最大的太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)國(guó)，但是需求超過(guò)95%都是由國(guó)外需求所帶動(dòng)的，換句話說(shuō)，中國(guó)國(guó)內(nèi)對(duì)太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)在增大，但是應(yīng)用和市場(chǎng)卻沒(méi)有得到普及，這是我國(guó)非常奇怪的現(xiàn)象，因?yàn)閲?guó)外對(duì)太陽(yáng)能電池的推廣非常大，尤其在法國(guó)、美國(guó)和日本、意大利這些歐洲國(guó)家和北美地區(qū)，他們的法規(guī)對(duì)太陽(yáng)能各種建筑有一定要求，要求建筑物在造成時(shí)候要求能夠達(dá)到20%以上的太陽(yáng)能采光率。
太陽(yáng)能電池現(xiàn)在有非常多的品種，從應(yīng)用的技術(shù)層面上來(lái)說(shuō)，硅基太陽(yáng)能電池應(yīng)用的比較多，占全球太陽(yáng)能電池總量的98%，而晶體硅太陽(yáng)能電池又占其中的80%以上。國(guó)內(nèi)應(yīng)用是多晶硅、單晶硅所組成的太陽(yáng)能電池片上，在國(guó)內(nèi)，據(jù)我了解，現(xiàn)在一些應(yīng)用在大城市的建筑上比較少，主要還是核電站、發(fā)電站普及率比較大一些。
光伏太陽(yáng)能硅晶片的應(yīng)用，從2009年開(kāi)始，一個(gè)是受金融危機(jī)的影響，另外是國(guó)外大面積的推廣應(yīng)用造成了原材料下降的非常厲害，利潤(rùn)成本得到很大壓縮，從而進(jìn)入低迷期。不管?chē)?guó)內(nèi)還是國(guó)外，產(chǎn)量都是以每年超過(guò)40%的產(chǎn)量和產(chǎn)能增長(zhǎng)，一直到現(xiàn)在都還是逐年增長(zhǎng)，之所以進(jìn)入低迷期，主要原因是因?yàn)橹耙恢痹趶V泛應(yīng)用以及技術(shù)層面非常成熟的多晶硅材料價(jià)格有非常大的下跌。去年年底中國(guó)政府推出了正確的多晶硅太陽(yáng)能法制法規(guī)和標(biāo)準(zhǔn)要求，在國(guó)內(nèi)，政府已經(jīng)對(duì)太陽(yáng)能的利用作出了一定的要求和需求。多晶硅是一種比較成熟的技術(shù)，已經(jīng)利用的太陽(yáng)能電池超過(guò)65%的使用量，剩下的30%主要是以單晶硅為主，這兩種技術(shù)層面相對(duì)來(lái)說(shuō)比較成熟，應(yīng)用比較廣泛，價(jià)格也已經(jīng)達(dá)到穩(wěn)定期。
多晶硅的特點(diǎn)，成本比較低，轉(zhuǎn)換效率相對(duì)來(lái)說(shuō)稍微低一點(diǎn)，大概在15-17%的范圍，平均值16%。單晶硅的價(jià)格要高一些，可能是多晶硅180-200%，現(xiàn)在可能沒(méi)有這么高了，相對(duì)來(lái)說(shuō)單晶硅轉(zhuǎn)化效率高一些，平均值接近20%，實(shí)驗(yàn)室里做出的最高轉(zhuǎn)化效率是25%，對(duì)技術(shù)的要求非常高。從2011年年底開(kāi)始，由英國(guó)太陽(yáng)能企業(yè)開(kāi)發(fā)出一種全新的硅晶片，原理是利用了多晶硅生產(chǎn)基礎(chǔ)和設(shè)備，長(zhǎng)出了一種轉(zhuǎn)化效率接近于單晶硅全新型單晶片，特點(diǎn)是成本基本可以降低為接近單晶硅，正式名稱(chēng)叫高效多晶片，但我們習(xí)慣將它稱(chēng)為準(zhǔn)單晶，因?yàn)樗男阅芤呀?jīng)達(dá)到了單晶片的效果，這個(gè)技術(shù)到目前為止還是掌握在技術(shù)掌控性的大型企業(yè)中。在未來(lái)一段時(shí)間內(nèi)，準(zhǔn)單晶應(yīng)該是一種新趨勢(shì)，從技術(shù)上來(lái)說(shuō)也有一定發(fā)展前途，相對(duì)來(lái)說(shuō)價(jià)格更加低廉，在未來(lái)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)準(zhǔn)單晶將呈現(xiàn)代替多晶硅或者單晶硅的局面。
作為清洗行業(yè)來(lái)說(shuō)，我們最關(guān)心的是硅晶片其中的清洗流程，硅晶片生產(chǎn)工藝當(dāng)中，有超過(guò)20%以上部分都涉及到清洗，這個(gè)工藝主要流程從切片開(kāi)始，然后進(jìn)行脫膠，切片完了剝離，現(xiàn)在人工插槽方式插入花籃中，然后進(jìn)入最關(guān)鍵的超聲清洗部分，我們各種各樣清洗的應(yīng)用最主要的是插片之后的清洗流程，清洗完了之后經(jīng)過(guò)干燥和檢驗(yàn)，然后進(jìn)行包裝，然后才能進(jìn)行太陽(yáng)能電池片的處理。清洗這道工序在整個(gè)硅晶片生產(chǎn)流程中占的時(shí)間并不長(zhǎng)，但這一步非常重要，如果片子上哪怕只有一個(gè)點(diǎn)沒(méi)有洗干凈，出現(xiàn)了污漬，整個(gè)硅片相當(dāng)于廢片，沒(méi)有鑲嵌到電池板上，會(huì)影響整個(gè)電池板的效率，太陽(yáng)能電池廠家一直非常重視這塊的效率，清洗這塊成品的效率實(shí)際上是關(guān)系到最終產(chǎn)品的效益。清洗結(jié)果有時(shí)候甚至?xí)绊懙疆a(chǎn)品的定價(jià)，比如一個(gè)訂單是一千萬(wàn)片，對(duì)最終生產(chǎn)出來(lái)的太陽(yáng)能電池板有一個(gè)平均轉(zhuǎn)化率，轉(zhuǎn)化率高的話，相對(duì)來(lái)說(shuō)定價(jià)就高一些，如果有些步驟上出現(xiàn)了誤差，或者參差不齊，對(duì)訂單價(jià)格會(huì)有所影響。
硅晶片的預(yù)沖洗，表面污垢主要來(lái)自切片中帶過(guò)來(lái)的一些切削液、沙漿、碳化硅及雜志金屬氧化物等，去除起來(lái)非常難，因?yàn)橹挥斜”∫粚樱疋c、銅這種金屬，哪怕只有千分之幾PPM金屬雜質(zhì)在里面，會(huì)引起硅晶片表面缺陷點(diǎn)，造成轉(zhuǎn)換時(shí)候不能流通，直接會(huì)影響光電轉(zhuǎn)化效率。經(jīng)過(guò)預(yù)沖洗正在脫膠的硅片，預(yù)沖洗階段，主要采用手動(dòng)或者自動(dòng)兩種方式，有一定水壓力對(duì)硅片表面進(jìn)行清洗，主要是去除附著性顆粒以及能夠去除的有機(jī)污垢，壓力對(duì)硅晶片表面有一定要求，如果壓力太大，片子就很容易碎，但如果壓力太小，不能深入到緊壓的硅片中去，如果這樣的情況，壓片太小，對(duì)后期清洗會(huì)造成非常大的影響，大量的減少壽命，另外洗完之后不可見(jiàn)的污片非常多，這樣會(huì)減少成品率。
插片之后的硅晶片，這時(shí)候基本上呈現(xiàn)出不是非常臟的情況，這時(shí)候所殘余的污垢主要在于硅片中心附近一些固體顆粒污垢的殘留，這種殘留很難用物理方法或者高壓水沖去除。有時(shí)候分布在四周或者局部地區(qū)，有時(shí)候一片硅片正反兩面可能有不一樣的表現(xiàn)，在硅片插后之后到清洗之前我們有一個(gè)非常重要的要求，從你切片完了之后的硅片到清洗完整個(gè)流程有時(shí)候長(zhǎng)達(dá)一個(gè)小時(shí)或者兩個(gè)小時(shí)，整個(gè)過(guò)程中要求片子一定要浸泡在水溶液中，有的企業(yè)用極低溶度的酸液浸泡，如果硅片暴露空氣中，很快與空氣表面反映之后產(chǎn)生氧化層，氧化層又吸附在之后的氧化層之上，對(duì)后面的清洗造成非常大的影響，所以對(duì)浸泡的要求非常高，在清洗過(guò)程中我們使用的一定是高純度的去離子水，哪怕一點(diǎn)點(diǎn)其它雜質(zhì)離子都會(huì)對(duì)表面產(chǎn)生缺陷，主要是影響后面的光電轉(zhuǎn)化效率。
在插片完了之后進(jìn)入清洗流程，進(jìn)入超聲清洗過(guò)程，通常有6-8個(gè)清洗槽，有自動(dòng)和手動(dòng)兩種，硅片種類(lèi)不同要求也一樣。在6-8個(gè)槽的順序中，前面會(huì)有一道或者兩道純水超聲，同時(shí)開(kāi)啟溢流，固體顆粒如果前期沒(méi)有大量去除，一定影響后期的清洗效果，另外很容易造成管道或者超聲效果沒(méi)有那么好，過(guò)洗之后酸洗，現(xiàn)在已經(jīng)不大用鹽酸或者硫酸了，鹽酸或者硫酸一方面后期處理比較麻煩，另外對(duì)硅片表面會(huì)帶進(jìn)來(lái)一些點(diǎn)腐蝕，這個(gè)比較嚴(yán)重。酸洗完了之后通過(guò)經(jīng)過(guò)一道水洗，避免將酸洗液帶入清洗劑，然后進(jìn)入正式的清洗劑洗槽，通常有兩個(gè)，極少數(shù)情況下只有一個(gè)槽，兩個(gè)槽加液會(huì)有所不同，基本來(lái)說(shuō)，大部分情況下是比較相似的，可能會(huì)有濃度的微調(diào)，第一個(gè)槽的清洗液，由于前期是酸洗，第二個(gè)槽要求比較高，清洗之后進(jìn)行漂洗，對(duì)硅片表面有非常大的影響，在有的企業(yè)里，漂洗槽是由恒溫加熱水槽里的水直接進(jìn)入漂洗槽，漂洗槽溫度控制的比較好，有的企業(yè)可能沒(méi)有前期恒溫控制，換句話說(shuō)自然水溫的漂洗槽進(jìn)行漂洗，這樣會(huì)出現(xiàn)什么情況呢？夏天可能問(wèn)題不會(huì)很大，但是到了冬天，有時(shí)候水溫降到十度以下，對(duì)硅片清洗之后的漂洗帶來(lái)非常大的問(wèn)題，一個(gè)是沒(méi)辦法漂干凈，另外表面帶進(jìn)來(lái)的顆粒依然懸浮在里面，沒(méi)辦法溢流出去，因?yàn)橐缌鞑荒茏龅暮艽螅磿r(shí)候容易導(dǎo)致局部出現(xiàn)污垢。
從工藝上來(lái)說(shuō)，這是比較通用的工藝，有的清洗槽有鼓泡或者溢流要求，以及漂洗階段一定要有溢流要求。在時(shí)間上，每個(gè)槽的時(shí)間都是不一樣的，根據(jù)硅片種類(lèi)包括前期切片時(shí)候所采用的添加劑以及生產(chǎn)設(shè)備以及時(shí)間的設(shè)定都是不一樣的，短的話有時(shí)候2-3分鐘/槽，長(zhǎng)的話6-8分鐘/槽，根據(jù)清洗液濃度和時(shí)間有所調(diào)整。溫度，過(guò)去通常在60度上下，現(xiàn)在為了節(jié)能和控成本，另外對(duì)清洗劑的要求更高了，溫度可以降到45度的范圍內(nèi)，跟時(shí)間也有一定的配套要求。酸液濃度，千分之零點(diǎn)幾到百分之幾，根據(jù)你選用的酸的種類(lèi)不同而有所不同。清洗液添加劑濃度，從我們公司開(kāi)發(fā)的產(chǎn)品來(lái)說(shuō)，基本控制在1-3%的范圍，根據(jù)設(shè)備和硅片種類(lèi)不同而有所差異。一般來(lái)說(shuō)，一般添加量在3-5%的范圍，太陽(yáng)能硅晶片生產(chǎn)企業(yè)通常365天連續(xù)作業(yè)，切片設(shè)備、鑄錠設(shè)備不能停，一旦停下來(lái)要再啟動(dòng)就需要花費(fèi)相當(dāng)大的時(shí)間和人力、物力，不能洗一半就洗不干凈了，然后再換槽換溫，如果一換槽、換溫、換液就涉及到升溫和調(diào)控過(guò)程，每個(gè)槽溫控不一樣，有時(shí)候設(shè)計(jì)時(shí)間長(zhǎng)達(dá)好幾個(gè)小時(shí)，如果間斷，前期生產(chǎn)下來(lái)的硅片洗不干凈，就一直堆在前期，堆放時(shí)間長(zhǎng)久以后，后面可能更難處理，連續(xù)作業(yè)情況下如何調(diào)配到更好濃度？比如24小時(shí)換一次，對(duì)清洗壽命有非常大的要求，如果加的量多的話工人操作就會(huì)出現(xiàn)很大問(wèn)題，因?yàn)槭翘砑宇l繁還是加量增加呢，濃度對(duì)硅片本身影響非常大，有時(shí)候添加濃度超過(guò)千分之一或者千分之二你清洗下來(lái)的硅片就受到很大影響，以至于沒(méi)有辦法做成太陽(yáng)能電池片，硅酸清洗實(shí)際上是非常敏感的程序，要求一定不能有損傷，一旦有輕微損傷，可能就會(huì)成為廢片。
清洗完之后的硅片要通過(guò)檢驗(yàn)，現(xiàn)在有人工檢驗(yàn)或者機(jī)器自動(dòng)檢驗(yàn)的方式，機(jī)器檢驗(yàn)的優(yōu)點(diǎn)在于檢驗(yàn)項(xiàng)目比較精確，項(xiàng)目更多，可以測(cè)厚薄，現(xiàn)在應(yīng)用更多的主要是人工檢測(cè)，主要檢測(cè)目標(biāo)是看硅晶片表面是否顏色光澤，主要要求是色澤一定要均一，絕對(duì)不能出現(xiàn)中間亮四周暗的現(xiàn)象。
對(duì)于硅晶片清洗劑的要求，主要有四個(gè)比較重點(diǎn)的要求：第一，清洗效果要好，一定要洗的足夠干凈，硅片表面不能有任何殘留，不能有任何花斑。第二，對(duì)硅片表面非常敏感，不能有任何損傷，這種硅片通常要求有一定的腐蝕量，完全不腐蝕不可以，對(duì)硅片的損傷和腐蝕度適中是非常精密的要求。第三，清洗力持久，清洗壽命長(zhǎng)，符合成本規(guī)劃。第四，操作便利，對(duì)人體、環(huán)境無(wú)害，符合排放標(biāo)準(zhǔn)。
清洗效果考察，我們主要考察洗完之后是否達(dá)到清洗效果要求，第一，一個(gè)是對(duì)硅晶片檢測(cè)，包括色澤、亮度、有無(wú)花斑、親水性等。第二，對(duì)清洗后的硅片做織構(gòu)化處理，檢測(cè)光轉(zhuǎn)化效率。第三，清洗工藝的確認(rèn)，單位洗劑的清洗數(shù)量。第四，清洗液的排放及安全性，主要是對(duì)清洗劑里表面活性劑、螯合劑各種添加劑的選擇有各種要求，太陽(yáng)能企業(yè)處理有無(wú)磷、無(wú)毒要求之外，對(duì)清洗劑排放有COD值的考察要求。
清洗效果考察，第一個(gè)考察，現(xiàn)場(chǎng)目測(cè)，色澤均勻一致，無(wú)色差，無(wú)花斑，無(wú)暗痕，無(wú)可視殘留污漬。第二次的目測(cè)，我們稱(chēng)為織構(gòu)化處理，也就是制絨后，花斑一旦形成，是沒(méi)辦法去除的，而且這條花斑在沒(méi)有制絨之前顯現(xiàn)不出來(lái)，因?yàn)椤 ∈菢O微量的殘留，或者腐蝕過(guò)度，經(jīng)過(guò)制絨之后，由于受到腐蝕處理的影響，花斑非常明顯了，會(huì)影響光電轉(zhuǎn)化率，基本是廢片。這個(gè)程序一定經(jīng)過(guò)制絨才能看得出來(lái)，如果機(jī)器進(jìn)行微量的光測(cè)檢驗(yàn)，微量殘留也是看不出來(lái)的，制絨是檢驗(yàn)硅晶片是否達(dá)標(biāo)非常重要、非常直接的手段。由于多晶硅各項(xiàng)同向性特點(diǎn)，通常采用酸制絨，硅晶片表面一旦有殘留，或者腐蝕不均勻，就會(huì)出現(xiàn)“陷井”，跟光“陷井”不一樣，光“陷井”是吸光部分，不均勻，對(duì)采光或者對(duì)光電吸收會(huì)有影響，不連續(xù)，相對(duì)來(lái)說(shuō)，要求絨面非常均勻，密度鋪的剛剛好。單晶硅和準(zhǔn)單晶通常制絨后形成金字塔絨面，做到百分之百均勻基本不可能，也就是對(duì)于光電反射不一定有利的現(xiàn)象，有一個(gè)平均凈值，要達(dá)到均勻，密度要?jiǎng)倓偤茫荒苡袟l狀或者塊狀缺陷，有缺陷就相當(dāng)于有一個(gè)采光點(diǎn)的光沒(méi)有采到，一點(diǎn)可能還不會(huì)影響很大，整個(gè)晶片上如果都不均勻，可想而知，光電轉(zhuǎn)化率一定低很多，相當(dāng)于沒(méi)有吸光；制絨后單晶硅的硅片要求色差一定要暗，這樣吸光率才好。如果這條拿去制絨，結(jié)果是不均勻，會(huì)影響到光電轉(zhuǎn)化效率。我們要求最好的金字塔直徑或高度大概1：1.6，金字塔如果太小，實(shí)際上金字塔等于沒(méi)有豎立起來(lái)，如果塔面容量太大，會(huì)影響光的二次反射，要采光，一定要經(jīng)過(guò)多次反射然后進(jìn)入硅片中，如果只反射一次，大部分光線又回到大氣中了，能量就沒(méi)辦法采集，要求多次反射，要求金字塔大小和斜度以及直徑比要達(dá)到非常好的比例。清洗完之后現(xiàn)場(chǎng)可以做容易判斷，強(qiáng)調(diào)硅晶片表面的親水性，干凈的硅晶片如果沒(méi)有親水性的二氧化硅表面層，如果清洗的非常干凈，如果把純凈水滴到表面，如果出現(xiàn)撒開(kāi)放式，說(shuō)明表面氧化層沒(méi)有完全去除，有一層親水性的二氧化硅層，另外漂洗或者清洗液沒(méi)有洗干凈，通常清洗液都是親水性的，殘留在上面的親水層會(huì)影響后面制絨效果，有時(shí)候影響絨面整個(gè)都出不來(lái)的現(xiàn)象。這是現(xiàn)場(chǎng)可以做的最方便、最快捷的檢測(cè)方式，以前我們還碰到過(guò)一些方式，硅晶片表面通常中間一塊親水性可能比較好，有的地方中間比較好，四周比較差，因?yàn)椴宀鄯绞绞且运闹芸繑n方式插片的，超聲如果不夠強(qiáng)，可能就出現(xiàn)四周比較弱、中間比較強(qiáng)的方式，屬于局部沒(méi)有洗干凈，通過(guò)復(fù)洗或者再清洗的方式能夠得到一定的改善，如果現(xiàn)場(chǎng)做出來(lái)的片子就是親水性比較差的話，我們的措施一個(gè)是加強(qiáng)漂洗，如果清洗劑的問(wèn)題就沒(méi)辦法了，如果清洗劑壽命已經(jīng)達(dá)到一定限度，洗不干凈，清洗劑就要更換或者添加。對(duì)于硅晶片清洗來(lái)說(shuō)，歸根到底還是光電轉(zhuǎn)化率效果，清洗劑的不同和清洗效果的好壞直接影響片子的光電轉(zhuǎn)化率，多晶硅通常轉(zhuǎn)化率平均值在16左右，如果洗的好，特別出色的可能達(dá)到17甚至17.5以上一點(diǎn)，如果洗的不好，有時(shí)候出現(xiàn)12、13左右的值，對(duì)于廠家和電池采購(gòu)商都是問(wèn)題，如果做成電池的話，效益就不大，因?yàn)檗D(zhuǎn)化率太低，如果不做成電池，再進(jìn)行回爐，相當(dāng)于成本要翻一番，對(duì)廠家是一個(gè)非常大的問(wèn)題，有時(shí)候可能可以通過(guò)復(fù)洗或者再處理甚至氫氟酸進(jìn)行重復(fù)處理，可以改善到比較好的條件，一旦片子制絨，絨面一生成，無(wú)論好壞已經(jīng)定型，如果毀壞絨面，唯一方法是回爐再造，要么重新把表層磨去一層，從效率來(lái)說(shuō)，硅晶片轉(zhuǎn)化效率和使用率跟片子厚薄沒(méi)有關(guān)系，對(duì)于廠家來(lái)說(shuō)，當(dāng)然切的越薄越好，在線切割條件下，光電轉(zhuǎn)化效率最多的達(dá)到16-17，好的單晶硅可以達(dá)到18-20，現(xiàn)在20是一個(gè)突破口，突破20之后到底能達(dá)到多少是未來(lái)硅晶片的研究方向。
清洗劑的持久力，連續(xù)清洗之后，主要考察沒(méi)有洗干凈的數(shù)量，我們的清洗劑基本能夠把污片的數(shù)量控制在萬(wàn)分之五的范圍以下，我們的添加量只有1.5%，濃度非常高，對(duì)排放是有COD值檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的，我們這個(gè)產(chǎn)品一個(gè)特點(diǎn)是高濃縮，用量非常少，相對(duì)于用5%或者6%的添加劑來(lái)說(shuō)，在不同濃度下考察COD值，我們是清洗槽中取了COD值，數(shù)值上好象比他們高一些，從排放清洗槽數(shù)據(jù)上來(lái)測(cè)，我們基本在5千左右，一般COD排放值在6千左右。清洗壽命是至關(guān)重要的，實(shí)際上涉及到你這個(gè)產(chǎn)品能不能在公司或者企業(yè)包括車(chē)間里用，我們所做的清洗機(jī)的DC品牌基本上能做到每公斤1500-2000片的范圍，目前市場(chǎng)上各種各樣品牌均值大概1200片左右，我們洗2萬(wàn)片才換一槽液，基本要兩個(gè)班以上才需要換液。
清洗機(jī)DC的性質(zhì)及特點(diǎn)：濃縮性，加量非常少，加量少，添加時(shí)間相對(duì)延長(zhǎng)，單公斤清洗數(shù)量會(huì)非常高；另外一個(gè)特點(diǎn)清洗效果非常好，對(duì)硅片本身的損傷非常少，絨面非常漂亮，不會(huì)影響轉(zhuǎn)化效率，后面工序不需要根據(jù)各種各樣的成品率進(jìn)行轉(zhuǎn)化；自動(dòng)清洗設(shè)備和半自動(dòng)的設(shè)備都可以應(yīng)用；我們產(chǎn)品盡量選擇COD值比較低、排放更好的原料和產(chǎn)品，我們這個(gè)產(chǎn)品得到的口碑還是非常好的。
謝謝大家！
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