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ITO鍍膜技術(shù) 大突破

   2010-07-07 ne21.com21世紀(jì)新能源11810

 
工研院跨領(lǐng)域研發(fā)「低溫大氣壓電漿透明導(dǎo)電鍍膜制程與設(shè)備」,這項(xiàng)研究獲選工研院今年的「杰出研究金牌獎」,昨天在工研院37周年院慶中獲得表揚(yáng)。 記者李青霖/攝影

工研院成功突破昂貴的真空技術(shù),研發(fā)出新一代透明導(dǎo)電鍍膜制程和設(shè)備,不但節(jié)省三分之二的成本,更用「鋅」取代稀有的「銦」材料,是項(xiàng)兼顧環(huán)保的綠色制程。這項(xiàng)技術(shù),可以應(yīng)用在觸控面板及太陽能(PV)的透明電極制造上。

銦錫氧化(ITO)透明導(dǎo)電膜占電阻式觸控面板成本高達(dá)九成,日商日東電工及尾池?fù)碛腥蚱叱墒姓悸省H艄ぱ性哼@項(xiàng)「低溫大氣壓電漿透明導(dǎo)電鍍膜制程與設(shè)備技術(shù)」能順利進(jìn)入量產(chǎn),不僅會協(xié)助臺灣ITO透明導(dǎo)電膜廠擴(kuò)大市占,也讓觸控面板和PV制造成本大幅下降。

工研院昨(5)日舉行37周年院慶典禮,會中頒發(fā)奪得杰出研究金牌獎的「低溫大氣壓電漿透明導(dǎo)電鍍膜制程與設(shè)備技術(shù)」,是花了六年時(shí)間研發(fā)出的成果。

代表領(lǐng)獎的機(jī)械所研究員張加強(qiáng)說,會舍棄傳統(tǒng)技術(shù),改采非真空大氣壓電漿技術(shù),是因?yàn)閳?zhí)著創(chuàng)新的精神,而成就獲獎的榮耀。

 

 
標(biāo)簽: 鍍膜制程設(shè)備
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