• GE為位于紐約的GlOBALFOUNDRIES 新工廠－第8晶片廠提供超純水生產系統。

2010年7月5日――GE宣布其與GLOBALFOUNDRIES簽署以下協議，GE將為該集團旗下新建的半導體生產基地提供超純水生產系統。目前，該生產基地正處于施工建設階段，建成后將位于紐約州薩拉托加縣的Luther Forest科技園。GE將為市值為46億美元的新電腦芯片生產商“第8晶片廠”提供全面的超純水系統解決方案，包括系統設計、設備供應和安裝。該新建的生產基地是美國目前規模最大的經濟發展項目，預計在2012年年底竣工之際，它將成為全球最大最先進的半導體晶片生產基地。

“可靠且穩定的超純水處理系統將為第8晶片廠的正常運營發揮重要作用。我們之所以選擇GE, 是因為其豐富的工程經驗，穩定可靠的的技術支持以及強大的現場服務能力。”

GLOBALFOUNDRIES的第8晶片廠的副總裁兼總經理Norm Armour表示。

GE先進的超純水系統每天的處理量能達到百萬加侖的水，其高品質出水將用于半導體制造。這大幅降低運營成本，并顯著提高效率。

超純水系統在半導體晶片制造過程中重起到至關重要的作用。在一個生產周期內，一個晶片與超純水的接觸超過35次，在任何一個環節發生供水中斷或者水質不合格都會影響晶片的質量，甚至導致產品的報廢。GLOBALFOUNDRIES需要全天候可靠的超純水生產系統來實現高品質半導體晶片的可持續生產。

“我們很高興能幫助GLOBALFOUNDRIES第8晶片廠達到能源和水資源的最大化利用，同時降低工廠的運行成本，這對實現GLOBALFOUNDRIES的環保目標有重要意義。這一舉措對其公司在全球半導體行業內成功競爭至關重要。” GE發電設備與水處理，水處理及工藝過程部門的全球副總裁Jeff Connelly說,“這個項目充分反應了半導體行業對水質有著極其嚴格的要求，半導體行業對超純水系統的需求量將會日益提高。”

GE的超純水系統包括水處理技術，泵，儲油罐，紫外線消毒器，臭氧發生器，離子交換，超濾系統和氣體轉移膜系統，以及調試，運行和維修服務。

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